等離子清洗機使用的氣體,工藝參考配方:常用氧氣+氬氣,根據清洗材質(zhì)的不同,可分別使用氧氣、氬氣、氫氣、氮氣、四氟化碳等氣體,不同類(lèi)型的氣體在清洗過(guò)程中的反應機理是不同的,活潑氣體的等離子體具有更強的化學(xué)反應活性,不同氣體的等離子體具有不同的化學(xué)性能,如氧氣的等離子體具有很高的氧化性,能氧化光刻膠反應生成氣體,從而達到清洗的效果;腐蝕性氣體的等離子體具有很好的各向異性,這樣就能滿(mǎn)足刻蝕需要。
氧氣(Oxygen,O2):清洗方式:物理+化學(xué)
氮氣(Nitrogen,N2):清洗方式:物理+化學(xué)
二氧化碳(Carbon,CO2):清洗方式:物理+化學(xué)
氬氣(Argon,Ar):清洗方式:物理
壓縮空氣(Compressed Air,CDA):清洗方式:物理+化學(xué)
使用等離子清洗,可以使得清洗效率獲得極大的提高。整個(gè)清洗工藝流程幾分鐘內即可完成,因此具有產(chǎn)率高的特點(diǎn);
容易采用數控技術(shù),自動(dòng)化程度高;具有高精度的控制裝置,時(shí)間控制的精度很高;正確的等離子體清洗不會(huì )在表面產(chǎn)生損傷層,表面質(zhì)量得到保證;由于是在真空中進(jìn)行,不污染環(huán)境,保證清洗表面不被二次污染。
等離子處理過(guò)程為一種干制程,相對于濕制程來(lái)說(shuō),其具有諸多的優(yōu)勢,這是等離子體本身特征所決定了。由高壓電離出的總體顯電中性的等離子體具有很高的活性,能夠與材料表面原子進(jìn)行不斷的反應, 使表面物質(zhì)不斷激發(fā)成氣態(tài)物質(zhì)揮發(fā)出去,達到清洗的目的。其在材料表面處理過(guò)程中具有很好的實(shí)用性,是一種干凈、環(huán)保、高效的清洗方法。
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